กระบวนการกำเนิดพลาสมามีปัจจัยสำคัญ คือ
· การสร้าง สุญญากาศ และเครื่องกำเนิดความสูง
The most important components of a system are the vacuum chamber, the vacuum pump and a high-frequency generator for plasma creation.
· ชิ้นแรกจะสร้าง ความดันต่ำชั้นใน chamber และ เครื่องกำเนิดพลาสมา จะกำเนิดความถี่สูง และความต่างศักย์สูง และแก๊สกระบวนการจะถูกสั่งเข้ามา
At first low pressure is created in a recipient by means of a vacuum pump. and process gas. In the recipient is getting ionized.
· ชิ้นงานที่ต้องการทำความสะอาด หรือเตรียมผิว จะวางอยู่ใน
แก๊สจะแตกตัวเป็น ไอออน และทำปฏิกิริยาเคมี กำจัดคราบสกปรก
The component for treatment is exposed to plasma. The plasma system receives continuously fresh gas whilst contaminated gas is sucked off.เครื่องกำจัดสิ่งสกปรก และเตรียมผิวพลาสมา เราสามารถออกแบบและสร้างตมกำลังการผลิต ของท่านขนาดตั้งแต่ รุ่นมาตรฐาน Femto และ TETRA ซึ่งมี chamber ใหญ่ถึงกว่า 10,000 ลิตร
One option of varying parameters is the volume of the recipient. The chamber size is configured according to size quantity of the component to be treated. Large recipients can have a volume of 10,000 ltrs and more. Laboratory systems have a volume in the range of 1 to 50 ltrs. The method of plasma creation
การแบ่งการกำเนิดพลาสมา มี 3 รุ่น kHz-(40kHz) MHz (13.56MHz) และ microwave (2.45GHz)
การประยุกต์ใช้ในกระบวนการผลิต
Process development it is vital to treat specimens. You should therefore not delay in sending us your sample parts.
* กรุณาส่งชิ้นงานมาทำการทดสอบ เราบริการทดสอบชิ้นงานให้ฟรีก่อนพร้อมออกแบบกระบวนการ *
Standard applications are carried out without charge. however the process for specimens exceed the usual frame of work we will be able to make a quote for the particular process to be developed.
|